美國MicroLine高精密光學(xué)影像測量儀

MicroLine-300是一款桌上型半自動CD測量系統(tǒng)。

主要技術(shù)參數(shù)：

◆    測量范圍(XYZ)：標(biāo)準(zhǔn)：200×200×25mm；可選：300x300x25
◆    視場內(nèi)測量精度：10nm(100X 鏡頭)；Z軸聚焦范圍：25 mm
◆    視場內(nèi)測量范圍：0.5um~400um；
◆    視場內(nèi)測量重復(fù)性(100x 物鏡)：  晶圓上<0.010um(1δ)；
                                                    掩模板上0.005um(1δ)；   
◆    承重：2kg
◆    標(biāo)配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X 
 
MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .
The main technical parameters :
◆ X,Y,Z Measuring Range (mm):   standard :200x200x25                      optional :  300X300x25 
◆ The field measurement accuracy ：10nm （100X lens ）          Z Foucsing Range (mm)     :   25
◆ The field measurement range ：0.5um~400um；
◆ The field measurement repeatability （100X lens）：on wafer < 0 0.010m(1δ)；
                                                                             on mask plate 0.005um(1δ)；  
◆  Max Recommanded Load      :   2kg
◆  Lens ： standard ：10X
                 optional ：5X，20X，50X，100X。 
 
 
MicroLine 系列 主要用于測量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對接誤差等)量測。
MicroLine 臨界尺寸測量系統(tǒng)設(shè)計應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測。Microline 系列可自動測量線寬，迭置重合，和其他關(guān)鍵尺寸。
MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡，高精度運動平臺，可測量0.5 微米到400 微米大小的產(chǎn)品，測量精度和重復(fù)性在10nm （1  σ ，100倍物鏡）。